12 月 13 日消息，據(jù)中國臺灣媒體《經(jīng)濟日報》報道，聯(lián)電與三星合作開發(fā)的 22nm 高壓制程最快明年首季開始試產(chǎn)驗證，屆時將為三星代工新的 OLED 驅(qū)動 IC。

▲ 圖源：經(jīng)濟日報

　　據(jù)悉，聯(lián)電方面證實，22nm 高壓制程正因應(yīng)客戶需求開發(fā)中，但無法透露客戶名稱。臺媒分析稱目前 OLED 驅(qū)動 IC 廠商中僅有三星有能力導(dǎo)入聯(lián)電的 22nm 高壓制程，最快明年第 1 季開始小量試產(chǎn)驗證，初期產(chǎn)能數(shù)千片，之后逐步放大至數(shù)萬片。

　　該報道指出，聯(lián)電 22nm 制程與原來 28nm 制程相比，能夠縮減 10%的晶粒面積，且擁有更佳功率效能比和更強的射頻性能。22nm 高壓制程則從原來可支持的 1.8V/3.3V/5V/8V 提高至最大支持 10V/18V。

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