1月14日消息 盛美半導(dǎo)體官方發(fā)布，1 月 8 日，盛美半導(dǎo)體首臺應(yīng)用于大功率半導(dǎo)體器件制造的新款 12 寸單晶圓薄片清洗設(shè)備已通過廈門士蘭集科量產(chǎn)要求，提前驗收!該設(shè)備于 2020 年 5 月 20 日作為首批設(shè)備之一搬入工廠，從正式裝機到應(yīng)用于產(chǎn)品片生產(chǎn)，只用了 18 天的時間，原定一年的驗證期僅用了 6 個月即順利完成驗收。

　　▲盛美 12 寸單晶圓薄片清洗設(shè)備

　　盛美新款 12 寸單晶圓薄片清洗設(shè)備，是一款高產(chǎn)能的四腔體系統(tǒng)，用于超薄片的硅減薄濕法蝕刻工藝，以消除晶圓應(yīng)力、并進行表面清洗等。該系統(tǒng)的傳輸及工藝模塊為超薄硅片的搬送及工藝處理提供了有效的解決方案，基于伯努利效應(yīng)，該系統(tǒng)在傳輸與工藝中，與晶圓表面完全無接觸，消除由接觸帶來的機械損傷，提高器件的良率。

　　通過不同的設(shè)定，該系統(tǒng)可適用于 Taiko 片、超薄片、鍵合片、深溝槽片等不同厚度的晶圓;通過采用不同的化學(xué)藥液組合，該系統(tǒng)可拓展應(yīng)用于清洗、光刻膠去除、薄膜去除和金屬蝕刻等工藝。

特別提醒：本網(wǎng)內(nèi)容轉(zhuǎn)載自其他媒體，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點。其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內(nèi)容未經(jīng)本站證實，對本文以及其中全部或者部分內(nèi)容、文字的真實性、完整性、及時性本站不作任何保證或承諾，并請自行核實相關(guān)內(nèi)容。本站不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。如若本網(wǎng)有任何內(nèi)容侵犯您的權(quán)益，請及時聯(lián)系我們，本站將會在24小時內(nèi)處理完畢。