南大光電在接受機構(gòu)調(diào)研時表示，公司研發(fā)的 ArF 光刻膠主要定位于 90nm-28nm 集成電路的制程應(yīng)用，公司 ArF 光刻膠產(chǎn)品分別通過一家存儲芯片制造企業(yè)和一家邏輯芯片制造企業(yè)的驗證，目前多款產(chǎn)品正在多家客戶同時進行認證。

　　南大光電稱，通過驗證的一家客戶從去年 8 月份以來，一直正常購買公司光刻膠產(chǎn)品。因為是客制化產(chǎn)品，暫未形成規(guī)模銷售。ArF 光刻膠根據(jù)客戶訂單情況進行生產(chǎn)銷售，目前項目延期至 2022 年底，公司將通過統(tǒng)籌協(xié)調(diào)全力推進，力爭早日完成該項目建設(shè)。

　　公司 ArF 光刻膠產(chǎn)品第一步是要完成替代進口，進口替代任務(wù)完成后，再進行品質(zhì)提升。目前公司 ArF 光刻膠是從 核心原材料開始進行研發(fā)，徹底解決卡脖子問題。

　　在其他產(chǎn)品方面，目前，南大光電 MO 源的國內(nèi)市場占有率約 40%，是國內(nèi) MO 源產(chǎn)品品類最齊全的公司之一;砷烷現(xiàn)有產(chǎn)能 30 噸，計劃擴建 70 噸;磷烷現(xiàn)有產(chǎn)能 70 噸，計劃擴建 70 噸;烏蘭察布三氟化氮生產(chǎn)基地建設(shè)按計劃正常推進，計劃建設(shè)產(chǎn)能 7200 噸，已完成 1800 噸產(chǎn)能建設(shè)，目前公司各產(chǎn)品處于滿產(chǎn)滿銷狀態(tài)。

　　從各類產(chǎn)品市場占有率來看，MO 源國內(nèi)約 40%;前驅(qū)體國內(nèi)約 8%;氫類電子特氣國內(nèi)約 60%;三氟化氮國內(nèi)市占率約為 35%，國外市占率約為 10%;六氟化硫主要在國內(nèi)銷售，市占率約為 20%。

　　南大光電表示，公司努力實施 MO 源 2.0 計劃，通過技術(shù)創(chuàng)新不斷優(yōu)化產(chǎn)品和客戶結(jié)構(gòu)，先進前驅(qū)體材料如 28nm 和 14nm 制程前驅(qū)體、硅前驅(qū)體等產(chǎn)品研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化取得重要突破;氫類電子特氣在技術(shù)、品質(zhì)、產(chǎn)能和銷售各方面已躍居世界前列;氟類電子特氣方面公司加快烏蘭察布“試驗田”建設(shè)，為建設(shè)“世界單項冠軍”產(chǎn)品奠定堅實的基礎(chǔ)。

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