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          晶瑞電材:公司近期已購得 KrF 光刻機一臺,可用于光刻膠曝光測試

            12 月 8 日,有投資者向晶瑞電材提問,晶瑞電材是否擁有 KrF 光刻機? 是否具備批量生產 KrF 光刻膠的條件?

            晶瑞電材表示,公司近期已購得 KrF 光刻機一臺,可用于 KrF 光刻膠的曝光測試,同時公司 KrF 光刻膠量產化生產線正在積極建設中。

          晶瑞電材:公司近期已購得 KrF 光刻機一臺,可用于光刻膠曝光測試

            關于公司的主導產品,晶瑞電材表示,公司的主導產品包括光刻膠及配套材料、超凈高純試劑、鋰電池材料和基礎化工材料等,廣泛應用于半導體、新能源、基礎化工等行業(yè),主要應用到下游電子產品生產過程的清洗、光刻、顯影、蝕刻、去膜、漿料制備等工藝環(huán)節(jié)。公司專業(yè)從事微電子化學品的產品研發(fā)、生產和銷售。公司經過多年研發(fā)和積累,超凈高純試劑主要產品達到國際最高純度等級(G5),打破了國外技術壟斷,制定了多項行業(yè)標準;被中國電子材料行業(yè)協會評為“中國電子化學品十強企業(yè)”,光刻膠產品規(guī)?;a近 30 年,達到國際中高級水準,是國內最早規(guī)模量產光刻膠的少數幾家企業(yè)之一。

            根據官方資料,晶瑞電材子公司蘇州瑞紅于 1993 年開始光刻膠生產,是國內最早規(guī)模量產光刻膠的少數幾家企業(yè)之一,目前能夠能夠提供紫外負型光刻膠和寬譜正膠及部分 g 線、i 線正膠等高端產品,擁有達到國際先進水平的光刻膠生產線,實行符合現代微電子化學品要求的凈化管理,配備了國內一流的光刻膠檢測評價裝置。承擔并完成了國家 02 重大專項“i 線光刻膠產品開發(fā)及產業(yè)化”項目,i 線光刻膠已向國內頭部的知名大尺寸半導體廠商供貨,KrF (248nm 深紫外) 光刻膠完成中試,產品分辨率達到了 0.25~0.13μm 的技術要求,建成了中試示范線。公司于 2020 年下半年購買 ASML XT 1900 Gi 型光刻機設備,ArF 高端光刻膠研發(fā)工作正式啟動,旨在研發(fā)滿足 90-28nm 芯片制程的 ArF (193nm) 光刻膠。與半導體行業(yè)客戶包括中芯國際、華虹宏力、上海積塔、長江存儲、士蘭微、合肥長鑫、揚杰科技等建立了長期合作伙伴關系。(校對 / 日新)

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